カテゴリー別アーカイブ: ナノテク

ワッティー、研究開発用途向けに新しいALD成膜装置を開発

ALD成膜装置(ワッティー)

ワッティーは、研究開発用途向けに新しいALD成膜装置を開発した。ALD(Atomic Layer Deposition:原子層堆積)は、原子1個分という極めて薄い膜を緻密に形成できる成膜プロセス。最先端の半導体デバイス製造で使われている他、最近ではガスを透過させないバリアシートや、微粒子へのコーティング技術など、様々な分野でALDが利用されるようになってきている。

MITとミシガン大、転写不要の大面積グラフェン成膜法を開発

転写を伴わずに基板上へグラフェンを成膜するプロセス(出所:MIT)

マサチューセッツ工科大学(MIT)とミシガン大学の研究チームが、基板上にグラフェンを成膜する新たな方法を開発した。従来法では、金属箔上にグラフェンを成膜してから所望する基板に転写する必要があったが、新しい方法は転写プロセスを伴わず、シリコンウェハーや大面積のガラス基板などにグラフェンを直接成膜できる。ディスプレイや太陽電池などへのグラフェンの応用が容易になると期待される。

富士フイルムと京大、量子ドット薄膜での高効率の光電変換に成功

相互作用の低い量子ドット薄膜と相互作用の高い量子ドット薄膜の比較(出所:富士フイルム)

富士フイルムが、量子ドットの集合体からなる薄膜(量子ドット薄膜)において、量子ドット間の距離を精密に制御することで、光エネルギーを効率的に電気エネルギーへ変換することに成功した。京都大学 化学研究所の金光義彦教授との共同研究。

東北大、高い電気伝導性を持った3次元グラフェンの開発に成功

左:ナノ多孔質ニッケル上に成長した3次元ナノ多孔質グラフェン、右:ニッケルを溶かした後の3次元ナノ多孔質ナノ多孔質グラフェン単体 (出所:東北大学)

東北大学が、新規材料「3次元ナノ多孔質グラフェン」の開発に成功した。これまで3次元炭素材料は非結晶性不連続体(粉状)のため電気をほとんど通さなかったのに対して、結晶性の高い1枚の繋がった3次元グラフェンシートを作製することで高い電気移動度を達成した。シリコンに替わる3次元デバイスの開発が期待される。

MITら、グラフェンに微細な孔を開ける技術を開発。海水淡水化用フィルタへ応用期待

マサチューセッツ工科大学(MIT)、オークリッジ国立研究所とサウジアラビアの研究チームが、グラフェン上に微細な孔を開ける技術を開発した。孔の口径を制御することもできる。海水を淡水化する脱塩処理用フィルタやガス分離膜などへの応用が期待される。

ペンシルバニア州立大、ヒトの細胞内部で人工ナノモーターの動きを制御

ペンシルバニア州立大学の研究チームが、ヒトの細胞内部で人工ナノモーターをコントロールする技術を開発した。超音波を使ってナノモーターの前進運動や回転を制御できる。磁気による操縦も可能であるという。癌の治療やドラッグデリバリーへの利用が期待される。

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