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京大、高エネルギー密度・高安全性・低コストのマグネシウム金属二次電池を開発

高エネルギー密度、高安全性マグネシウム二次電池(出所:京都大学)

京都大学の研究グループは、高輝度光科学研究センターと共同で、既存のリチウムイオン電池に置き換わることが可能な高エネルギー密度マグネシウム金属二次電池の開発に成功した。開発した二次電池は埋蔵量の多いマグネシウム、鉄、シリコンが主な構成元素であり、低コスト化が期待される。

ワッティー、研究開発用途向けに新しいALD成膜装置を開発

ALD成膜装置(ワッティー)

ワッティーは、研究開発用途向けに新しいALD成膜装置を開発した。ALD(Atomic Layer Deposition:原子層堆積)は、原子1個分という極めて薄い膜を緻密に形成できる成膜プロセス。最先端の半導体デバイス製造で使われている他、最近ではガスを透過させないバリアシートや、微粒子へのコーティング技術など、様々な分野でALDが利用されるようになってきている。

MITとミシガン大、転写不要の大面積グラフェン成膜法を開発

転写を伴わずに基板上へグラフェンを成膜するプロセス(出所:MIT)

マサチューセッツ工科大学(MIT)とミシガン大学の研究チームが、基板上にグラフェンを成膜する新たな方法を開発した。従来法では、金属箔上にグラフェンを成膜してから所望する基板に転写する必要があったが、新しい方法は転写プロセスを伴わず、シリコンウェハーや大面積のガラス基板などにグラフェンを直接成膜できる。ディスプレイや太陽電池などへのグラフェンの応用が容易になると期待される。

東北大、全固体電池用の新規リチウムイオン伝導体を開発

左:KI - LiBH4系の格子定数、右:25 mol%LiBH4ドープ KI のイオン伝導度

東北大学の研究グループが、全固体電池のための新しいリチウムイオン伝導体KI-LiBH4を開発した。従来から知られている酸化物系や硫化物系の固体電解質に比べて飛躍的に成形性が高く、電極材料と良好な接触性を示す水素化物系固体電解質LiBH4(水素化ホウ素リチウム)に着目した。

富士フイルムと京大、量子ドット薄膜での高効率の光電変換に成功

相互作用の低い量子ドット薄膜と相互作用の高い量子ドット薄膜の比較(出所:富士フイルム)

富士フイルムが、量子ドットの集合体からなる薄膜(量子ドット薄膜)において、量子ドット間の距離を精密に制御することで、光エネルギーを効率的に電気エネルギーへ変換することに成功した。京都大学 化学研究所の金光義彦教授との共同研究。

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