アイトリックス、横浜市にグラフェン研究・体験拠点を開設

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アイトリックスは、2012年9月1日、グラフェンの研究開発および成膜体験の拠点となる「グラフェンR&Dセンター」を東工大横浜ベンチャープラザ(横浜市緑区)内に開設した。これまでの同社のグラフェン研究・体験拠点としていた山形県米沢市のR&Dセンターの機能を交通の便の良い首都圏に移すことで、研究や成膜体験の利用者増加を見込む。

グラフェン成膜装置「TCVD100A」 (ファインテック2012会場で撮影)

移転と同時に、グラフェン成膜装置を1台増やして2台で運用する。新拠点には常駐スタッフ3人を配置し、成膜方法の研究や装置購入検討者への成膜体験サービスの提供を行う。東京工業大学など国内のグラフェン研究機関との共同研究をめざす。

同社が販売するグラフェン成膜装置は、韓国ソウル大学のByung Hee Hong教授らが創設したベンチャー企業グラフェンスクエア(GSQ)が開発したもの。最大700mm×400mmの大面積で単層グラフェンを成膜できる。全体面積の95%以上のエリアで単層成膜できることに加え、結晶欠陥のない高品質なグラフェンが得られるという。

成膜体験サービスでは、実際の装置を使った銅箔上へのグラフェン成膜とPET基板へのグラフェン転写を体験できる。作製した銅箔およびPET上のグラフェン(サイズ80mm□)各2枚は持ち帰ることもできる。

同装置によるグラフェン成膜では、真空のガラス管内に銅箔を入れ、炭素源であるメタンガスを流しながら約1000℃で熱CVDを行う。30分程度で銅箔上にグラフェンが成膜されるので、グラフェンを中間媒体に一度移して銅箔をエッチングしてから、PETフィルムなどの基材に転写する。装置購入検討者に実際にこのプロセスを体験してもらうことで、装置販売につなげるという。


グラフェン成膜体験コース詳細(アイトリックスHP)

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