カテゴリー別アーカイブ: ナノテク

ワッティー、研究開発用途向けに新しいALD成膜装置を開発

ALD成膜装置(ワッティー)

ワッティーは、研究開発用途向けに新しいALD成膜装置を開発した。ALD(Atomic Layer Deposition:原子層堆積)は、原子1個分という極めて薄い膜を緻密に形成できる成膜プロセス。最先端の半導体デバイス製造で使われている他、最近ではガスを透過させないバリアシートや、微粒子へのコーティング技術など、様々な分野でALDが利用されるようになってきている。

MITとミシガン大、転写不要の大面積グラフェン成膜法を開発

転写を伴わずに基板上へグラフェンを成膜するプロセス(出所:MIT)

マサチューセッツ工科大学(MIT)とミシガン大学の研究チームが、基板上にグラフェンを成膜する新たな方法を開発した。従来法では、金属箔上にグラフェンを成膜してから所望する基板に転写する必要があったが、新しい方法は転写プロセスを伴わず、シリコンウェハーや大面積のガラス基板などにグラフェンを直接成膜できる。ディスプレイや太陽電池などへのグラフェンの応用が容易になると期待される。

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